视觉画布设计
canvas-design
基于设计原则创作静态视觉作品,用于海报与品牌图形。
troubleshoot-separation【文档与办公】Systematically diagnose and resolve chromatographic separation problems: document symptoms, identify root causes for peak shape and retention anomalies, evaluate matrix effects, and implement targeted fixes using a one-variable-at-a-time approach for GC and HPLC systems.
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系統診 GC、HPLC 分離疾。錄徵、診峰形、究保留異、評基質效、一變一試以驗修。
得:問錄附時、範(全峰 vs 特峰、標 vs 樣)、較參。
敗:無參→於錄況新注標以建今基線乃排。
按徵表辨因:
| 徵 | 因 | 解 |
|---|---|---|
| 拖(T > 1.5) | 二次作用(矽醇活性)、件死體積、柱頭污、過載 | 加胺改質(HPLC)、襯失活(GC)、換頭、修柱頭、減注量 |
| 前傾(T < 0.8) | 柱過載(量或體)、樣溶劑與相強不合 | 減注、稀於弱溶、用大徑柱 |
| 裂/雙峰 | 頭半塞、柱頭空、二異構、轉化 | 換頭、重填頭、驗樣穩、調 pH 鎖一形 |
| 寬(皆) | 柱外擴、管徑誤、檢池大、柱老、塔板少 | 減後柱管長徑、察接、換柱 |
| 寬(早出) | 柱頭聚差、注溶過強(HPLC)、冷上柱(GC) | 弱注溶、減注、增初溫 |
| 寬(晚出) | 柱內擴、溫低(GC)、梯度不陡(HPLC) | 升末溫、陡梯度、加有機洗 |
| 負峰 | 樣溶折射/吸與相異、空位峰(IEX) | 樣溶配相、用異波長 |
| 鬼峰 | 前注殘、相污、柱漏(GC)、隔漏(GC) | 注空驗、清/換注系、濾/脫氣相、換隔 |
| 基漂(升) | 柱漏(GC 高溫)、梯度移位(HPLC)、燈不穩(UV) | 降末溫、用低漏柱(GC)、行空梯度(HPLC)、換燈 |
| 基噪(高頻) | 電擾、泵搏、檢氣泡、檢污 | 接地、換泵封、脫氣、清檢池 |
得:辨 1-2 最可能因,按史排。
敗:徵不合表行、或多徵並現→疾或複合(如柱衰加漏)。先解最顯、再評。
| 徵 | 因 | 解 |
|---|---|---|
| 皆早移 | 流增、溫升、相強、柱空 | 察流設與實、驗溫、重備相、察柱 |
| 皆晚移 | 流減、溫降、相弱、管半塞 | 察漏(壓降)、驗溫、重備相、察線濾 |
| 保留漂(漸) | 柱衰、相蒸(敞器)、溫變 | 換柱、封器、穩爐、用柱恆溫 |
| 保留不重現 | 件漏、止閥誤、自取時誤、平衡不足 | 壓試件、換止閥、驗自取、增平衡量 |
| 失保留(k' 近 0) | 相崩(RP 高水)、柱去濕、相誤、接反 | 用極性嵌入或 AQ 柱、以有機重濕、驗相、察管 |
| 共出(前曾分) | 柱選性失(鍵相剝)、相成變、溫變 | 換柱、驗相備、察溫設與實 |
得:保留異因辨,歸系統(儀/相)或柱因。
敗:新柱注標解→原柱為因。新柱仍存→因在上游(相、儀、法參)。
得:基質效辨(干擾物有無、LC-MS 壓區、柱污況)附可行建。
敗:以有數不能辨→備基質配標曲與溶劑曲較斜率。斜差 > 15% 示顯效須改法。
得:問解、適性參復規。根因、修、驗皆錄。
敗:諸單變改皆敗→疾或多敗並存。同換諸耗與柱、新標驗、由新基線重診。仍敗→升儀養。
interpret-chromatogram -- 解譜以揭分疾develop-gc-method -- GC 法建,重設時關develop-hplc-method -- HPLC 法建,重設時關validate-analytical-method -- 排中重大改後或須再驗